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日本kk-eng超高密度室溫大氣壓等離子體裝置

日本kk-eng超高密度室溫大氣壓等離子體裝置
通過(guò)電極結(jié)構(gòu)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)高電子密度
可在大氣壓下生成非平衡等離子體
實(shí)現(xiàn)大氣壓等離子體照射處理
可調(diào)節(jié)放電路徑，形成等離子體射流

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
更新時(shí)間：2025-11-29
訪問(wèn) 量：114

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詳細(xì)介紹

日本kk-eng超高密度室溫大氣壓等離子體裝置
日本kk-eng超高密度室溫大氣壓等離子體裝置

超高密度室溫大氣壓等離子體裝置

? 技術(shù)亮點(diǎn)：

通過(guò)電極結(jié)構(gòu)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)高電子密度
可在大氣壓下生成非平衡等離子體
實(shí)現(xiàn)大氣壓等離子體照射處理
可調(diào)節(jié)放電路徑，形成等離子體射流

? 技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目	參數(shù)
等離子體生成方式	大氣壓等離子體射流
使用氣體	Ar（氬氣）、N?（氮?dú)猓?、O?（氧氣）、大氣
氣體流量	7 L/min
等離子體射流尺寸	φ18 mm × 47 mm
電源	AC 100V，300W
動(dòng)作壓力	大氣壓
動(dòng)作條件	20 mA，9 kV

小型、低價(jià)、操作簡(jiǎn)單
支持多種氣體（Ar、N?、O?、大氣）
高電子密度：可達(dá) 101? 個(gè)/cm3
大氣壓下穩(wěn)定運(yùn)行
微小等離子體射流生成

? 系統(tǒng)構(gòu)成：

大氣壓中空電極等離子體射流單元
控制電源（另備）
氣體供給系統(tǒng)（另備）

? 應(yīng)用實(shí)例：

金屬/樹(shù)脂表面改性（提高親水性）
表面清洗（如電子零件表面污染物去除）
金屬/樹(shù)脂材料的表面加工處理

? 應(yīng)用方向：

金屬/樹(shù)脂表面改性（親水性提升）
表面清洗（如電子元件表面污染物清除）
金屬/樹(shù)脂材料的改性加工

? 照射效果示例：

照射前：表面疏水，水珠成球狀
照射后：表面親水，水珠鋪展開(kāi)（親水處理成功）

? 可擴(kuò)展系統(tǒng)類(lèi)型：

大氣壓等離子體照射裝置（μ-AP型，小型）
高輸出大氣壓等離子體裝置
機(jī)器人搭載型
移動(dòng)式大氣壓等離子體裝置
密閉腔體兼容型
反應(yīng)性氣體兼容型等離子體裝置
小型便攜電源，應(yīng)用靈活

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日本kk-eng超高密度室溫大氣壓等離子體裝置

? 技術(shù)亮點(diǎn)：

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? 系統(tǒng)構(gòu)成：

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? 可擴(kuò)展系統(tǒng)類(lèi)型：

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